Химическое меднение

В основе химического меднения лежит каталитический механизм, при котором осаждение меди происходит на активированной поверхности и продолжается автокаталитически уже на медном слое. При металлизации диэлектриков по палладиевой классической активации меднение происходит при наличии на поверхности диэлектрика 0,3-0,5 г/м2 палладия.


Notice: Undefined index: gallery in /home/galvanik/public_html/templates/compile/a83994e0ab5d473aeabb04361084e8e7b97d1e45_0.file.page.html.php on line 46

Notice: Trying to get property 'value' of non-object in /home/galvanik/public_html/templates/compile/a83994e0ab5d473aeabb04361084e8e7b97d1e45_0.file.page.html.php on line 46